2台国产DUV光刻机的问世意味着什么？ - 知乎
另外，浸润式DUV,和干式DUV，其中最大的区别，就是在晶圆前面，加了一层介质水。 干式DUV采用的是空气作为光线传播的介质，浸润式DUV采用的是水来做光线传播的介质，而光 …
Why are we going from DUV straight to EUV lithography?
Maybe you want to ask a more specific question? What's the point of 50nm EUV if DUV can already achieve this as illustrated in my answer. There is an energy density charge transfer …
14nm光刻机是怎么做出7nm和5nm芯片的？ - 知乎
DUV是目前比较成熟的方案，现阶段最高采用193nm波长的深紫外光源，被广泛应用在7nm（N7)以及7nm以前的工艺里。 伴随着工艺的继续微缩，DUV已经力不从心，所以现在无 …
国产duv光刻机出来了，中芯国际是否能在一年内达到10-7nm左右 …
Jan 23, 2025 · 按照光源类型，光刻机可分为UV、DUV、EUV来源：硅基研究室制图 “同样的7nm芯片，用EUV跑，可能只需要40遍就能跑完，用DUV跑，可能需要90多遍，再算上产能 …
DUV 和 EUV 光刻机的区别在哪儿？ - 知乎
虽然名字上只有“极”和“深”的区别，但实际上这两种技术在原理和应用上都有显著的差异。 EUV，全称极端远紫外线，其波长为13.5纳米。 由于这种光线的波长远短于DUV，所以它能 …
英特尔想从DUV直接跳到high NA EUV是不是一步臭棋？ - 知乎
英特尔想从DUV直接跳到high NA EUV是不是一步臭棋？ DUV哪怕是浸没，光学分辨率只有38纳米，而EUV的分辨率是13纳米，是DUV足足三倍。
上海微电子能在2025年前攻克7nm光刻机吗？ - 知乎
一张嘴就是槽点。 根本不存在所谓的7nm光刻机，直接把光刻机说成是7nm、14nm、28nm都是有问题的。 光刻机应该是按照光源波长来划分: 用436nm光源的是g-line光刻机， 用365nm光源 …
有自媒体报道中国的28nm光刻机成功交付使用，如何看待？ - 知乎
也就是说28nm光刻机，如果是指分辨率的话，中国的光刻机要在物镜系统和掩膜技术远远超越ASML才可以，最有可能的是也就是在DUV领域，中国光刻机数值孔径比ASML大很多，high …
华为新凯来要研究出来5-28nm光刻机了，那么还要多久能回 …
Mar 29, 2025 · 毕竟生产芯片的duv光刻机和配套设备都已经在展会上大张旗鼓的公开出来，85%的良率和5nm的工艺可以说把国内芯片制造水平从及格线拉升到了优良水平。
你似乎来到了没有知识存在的荒原 - 知乎
知乎，中文互联网高质量的问答社区和创作者聚集的原创内容平台，于 2011 年 1 月正式上线，以「让人们更好的分享知识、经验和见解，找到自己的解答」为品牌使命。知乎凭借认真、专业 …